特許

J-GLOBAL ID：201103028467313431

中空シリカ粉末、その製造方法及び用途

発明者： 今野 幹男 ,  長尾 大輔 ,  村岡 美知子 ,  川崎 卓
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社 ,  国立大学法人東北大学
代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-191591
公開番号（公開出願番号）：特開2011-042527
出願日： 2009年08月21日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：

【課題】 本発明は、耐アルカリ性が優れた中空シリカ粉末、その製造方法及び用途を提供するものである。【解決手段】 シリカ(SiO2)を主成分とし、平均粒子径が5〜120nm、シェルの厚さが1〜35nm、シラノール基(≡Si-OH基)の数が1〜10個/nm2である中空シリカ粉末。コアとなる有機ポリマー粒子は、重合性モノマーを主成分としてこれにイオン性コモノマーをモル比で150:1〜2:1の割合で共重合させてなるソープフリー重合によって平均粒子径5〜90nmの粒子を製造し、陽イオン性水溶性高分子と非イオン性水溶性高分子を加え、コア粒子を含む液体を水からアルコールに置換した後、アルコキシシラン、水及び塩基性物質を添加してシリカを被覆し、平均粒子径5〜120nm、シリカシェルの厚さ1〜35nmのコアシェル粒子からなる粉末を製造し、その後コアを除去する中空シリカ粉末の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

シリカ(SiO2)を主成分とし、平均粒子径が5〜120nm、シェルの厚さが1〜35nm、単位表面積当たりのシラノール基(≡Si-OH基)の数が1〜10個/nm2であることを特徴とする中空シリカ粉末。

IPC (1件)：

C01B 33/18

FI (1件)：

C01B33/18 Z

Fターム (19件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB16 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072KK03 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM21 ,  4G072MM36 ,  4G072RR05 ,  4G072TT01 ,  4G072TT30 ,  4G072UU07 ,  4G072UU17