特許
J-GLOBAL ID：201103028703113643
正孔注入輸送層形成用インク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
岸本 達人
, 山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-183961
公開番号（公開出願番号）：特開2011-233941
出願日： 2011年08月25日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：
【課題】製造プロセスが容易でありながら、長寿命を達成可能なデバイスを提供可能な、正孔注入輸送層形成用インクを提供する。【解決手段】少なくとも遷移金属酸化物を含む遷移金属化合物及び遷移金属と保護剤とを含むか、又は、少なくとも遷移金属酸化物を含む遷移金属化合物と保護剤とを含む遷移金属含有ナノ粒子と、有機溶媒とを含有し、前記遷移金属含有ナノ粒子は、粒子表面に当該表面を保護する保護剤が付着してなり、当該保護剤が、有機基の末端に前記遷移金属及び/又は遷移金属化合物と連結する作用を生じる連結基を1分子中に1つ有する構造であって、当該有機基が特定の構造であり、且つ、当該連結基が特定の官能基である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも遷移金属酸化物を含む遷移金属化合物及び遷移金属と保護剤とを含むか、又は、少なくとも遷移金属酸化物を含む遷移金属化合物と保護剤とを含む遷移金属含有ナノ粒子を調製するための、正孔注入輸送層形成用インクであって、
遷移金属及び/又は遷移金属化合物と保護剤とを含む遷移金属含有ナノ粒子と、有機溶媒とを含有し、
前記遷移金属含有ナノ粒子は、粒子表面に当該表面を保護する保護剤が付着してなり、当該保護剤が、有機基の末端に前記遷移金属及び/又は遷移金属化合物と連結する作用を生じる連結基を1分子中に1つ有する構造であって、当該有機基が、炭素数が4〜30の直鎖又は分岐の飽和又は不飽和アルキル基、並びに、置換基として炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基を有していていても良い、ベンゼン、トリフェニルアミン、フルオレン、ビフェニル、ピレン、アントラセン、カルバゾール、フェニルピリジン、トリチオフェン、フェニルオキサジアゾール、フェニルトリアゾール、ベンゾイミダゾール、フェニルトリアジン、ベンゾジアチアジン、フェニルキノキサリン、フェニレンビニレン、フェニルシロール、及びこれらの構造の組み合わせより選択される1種以上であり、且つ、当該連結基が、水酸基、スルホン酸基、スルホンアミド基、及び下記一般式(1a)〜(1l)で示される官能基より選択される1種以上であることを特徴とする、正孔注入輸送層形成用インク。
IPC (1件)：
FI (3件)：
H05B33/22 C
, H05B33/14 A
, H05B33/22 D
3K107AA01
, 3K107CC21
, 3K107CC45
, 3K107DD73
, 3K107DD78
, 3K107DD84
, 3K107DD86
, 3K107DD87
