強磁性体のマグネトロンスパッタ方法および装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：清水善廣 , 阿部伸一 , 辻田幸史 , 田代作男 , 町田悦夫 , 打揚洋次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-241462
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064773
特許番号：特許第4270669号
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空処理室内に設けた強磁性体のターゲットの背後に設けた磁石からの磁場を該ターゲットの表面へ漏洩させ、該真空処理室内で発生するプラズマを該磁場により収束させて該ターゲットをスパッタリングする装置に於いて、該ターゲットの外周に該ターゲットの透磁率よりも透磁率の大きな材料でなる部材を配置し、該部材の表面がアースシールドで覆われたことを特徴とする強磁性体のマグネトロンスパッタ装置。

IPC (1件)：