特許

J-GLOBAL ID：201103029255829477

電子ビーム補正方法及び電子ビーム露光装置

発明者： 濱口 新一 ,  安田 洋
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-348462
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151398
特許番号：特許第4401556号
出願日： 2000年11月15日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】2つ以上の電子ビームにより、ウェハを露光する電子ビーム露光装置において、前記2つ以上の電子ビームの照射位置を補正する電子ビーム補正方法であって、 前記2つ以上の電子ビームのうちの少なくとも1つの電子ビームの照射位置の座標の少なくとも1つを検出する検出段階と、 検出された前記座標に基づいて、前記座標が検出された前記1つの電子ビーム以外の少なくとも1つの他の電子ビームの照射位置を補正する補正値を算出する算出段階と を備えることを特徴とする電子ビーム補正方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G03F 9/00 ( 200 6.01) ,  H01J 37/147 ( 200 6.01) ,  H01J 37/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01)

FI (7件)：

H01L 21/30 541 D ,  H01L 21/30 541 W ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/20 A ,  H01J 37/305 B