酸発生剤用の塩及び化学増幅型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-120700
公開番号（公開出願番号）：特開2011-006401
出願日： 2010年05月26日
公開日（公表日）： 2011年01月13日
要約：

【課題】優れた形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩及び、特に、液浸露光に好適に用いられ、欠陥の発生が少ない化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式(a)で表される塩。[式中、Q1及びQ2は、互いに独立に、F原子又はC1〜6のペルフルオロアルキル基;X1は、-[CH2]k-を表し、kは、1〜18の整数;X2は、単結合、直鎖状又は分岐状のC1〜12の脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基等;Y1は、C3〜36の脂環式炭化水素基;-X2-Y1基は、少なくとも1つのF原子を含む;Z+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(a)で表される塩。

IPC (6件)：

C07C 309/12 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 309/17 , C07C 381/12 , C09K 3/00

FI (6件)：

C07C309/12 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C309/17 , C07C381/12 , C09K3/00 K

Fターム (27件)：

2H125AF17P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA11 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H006TN10 , 4H006TN30 , 4H006TN60

引用特許：

審査官引用 (1件)

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-152533 出願人：住友化学株式会社

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