特許
J-GLOBAL ID:201103029408280089
半導体ウェハ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野口 武男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-019737
公開番号(公開出願番号):特開2000-223380
特許番号:特許第4109371号
出願日: 1999年01月28日
公開日(公表日): 2000年08月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】半導体ウェハにあって、その外周面に形成されたノッチの内壁面に径が1〜13μmのレーザ照射による微小ドットマークが形成されてなることを特徴とする半導体ウェハ。
IPC (1件):
FI (1件):
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