イオンビーム装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-023342
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223040
特許番号：特許第3535402号
出願日： 1999年02月01日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】フィラメントからの電子をイオン化室のガスに照射することによりガスをイオン化してイオンを生成するガスイオン源を備えたイオンビーム装置において、フィラメントとイオン化室との間にイオン抑制電極が配置され、フィラメントとイオン抑制電極との間に、フィラメントからの電子を加速させるための電場E1が形成されると共に、イオン抑制電極とイオン化室との間に、イオン抑制電極を通過した電子を減速させるための電場E2が形成されることを特徴とするイオンビーム装置。

IPC (4件)：