特許
J-GLOBAL ID：201103029620223443
化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いられる塩
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
植木 久一
, 植木 久彦
, 菅河 忠志
, 伊藤 浩彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-168013
公開番号（公開出願番号）：特開2011-046694
出願日： 2010年07月27日
公開日（公表日）： 2011年03月10日
要約：
【課題】解像度およびマスクエラーエンハンスメントファクターに優れた化学増幅型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】式(A1)で表される塩を酸発生剤としてレジスト組成物に使用すれば、上記目的を達成できる[式(A1)中、Z+は有機カチオンを表す。Q1及びQ2はフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ra1は2価の環式の脂肪族炭化水素基等を表す。Ra2は式(II-1)又は式(II-2)で表される脱離基である。式(II-1)及び式(II-2)中、Ra3及びRa4は水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。Ra5は脂肪族炭化水素基を表す。Ra6は2価の脂肪族炭化水素基を表す。Ra7は脂肪族炭化水素基を表す。]。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(A1)で表される塩。
IPC (5件)：
C07C 309/12
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, C07C 309/17
, C07D 307/00
C07C309/12
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, C07C309/17
, C07D307/00
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF21P
, 2H125AF26P
, 2H125AF38P
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 4C037AA02
, 4H006AA01
, 4H006AB81
