特許

J-GLOBAL ID：201103029979891700

酸発生剤用の塩及びレジスト組成物

発明者： 市川 幸司 ,  落合 光良 ,  杉原 昌子
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-252604
公開番号（公開出願番号）：特開2011-126871
出願日： 2010年11月11日
公開日（公表日）： 2011年06月30日
要約：

【課題】優れた解像度及びCD均一性を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[Q1及びQ2はフッ素原子又はC1-6ペルフルオロアルキル基を表す。L1及びL2はC1-17アルキレン基を表し、前記アルキレン基の-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。環W1はC3-36飽和炭化水素環を表す。vは1又は2の整数を表す。R5はC1-6アルキル基又はC1-6アルコキシ基を表す。wは0〜2の整数を表す。環W2はC3-36飽和炭化水素環を表す。R1はC1-12炭化水素基を表す。R2はC1-6アルキル基又はC1-6アルコキシ基を表す。sは0〜2の整数を表す。Z+は有機対イオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (7件)：

C07C 309/17 ,  C07C 381/12 ,  C07C 25/18 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07D 333/46

FI (7件)：

C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07D333/46

Fターム (28件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81