特許

J-GLOBAL ID：201103029999391500

有機物の剥離方法

発明者： 藤村 修三 ,  日数谷 健一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 久木元 彰 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-056053
公開番号（公開出願番号）：特開平2-237118
特許番号：特許第2541851号
出願日： 1989年03月10日
公開日（公表日）： 1990年09月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】イオン注入時にマスクに使用した有機物の剥離方法において、H2Oガスを高周波をエネルギー源として励起したプラズマ中で処理する工程を含むことを特徴とする有機物の剥離方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/302 H ,  H01L 21/30 572 A