フッ化マグネシウム膜及び低反射膜の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：栂村繁郎 (外1名)
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-085740
公開番号（公開出願番号）：特開平2-264901
出願日： 1989年04月06日
公開日（公表日）： 1990年10月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】Mg塩とBF3錯塩との反応により生成されたMgF2ゾルを含む溶液を基体上に塗布した後加熱することを特徴とするMgF2膜の製造方法。

IPC (4件)：