特許

J-GLOBAL ID：201103030480527089

リソグラフィ装置を制御するための方法および装置

発明者： メンチチコフ,ボリス ,  パディー,アレキサンドレ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-026880
公開番号（公開出願番号）：特開2011-171732
出願日： 2011年02月10日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：

【課題】改善されたオフラインパラメータ化モデリングの効果的なシステムおよび方法が必要とされている。【解決手段】リソグラフィ露光プロセスが、スキャナを用いて基板に対して実施される。スキャナは、いくつかのサブシステムを備える。露光中にサブシステムから生じるオーバーレイエラーがある。オーバーレイエラーをスキャトロメータを用いて測定すると、オーバーレイ測定値が取得される。オーバーレイ測定値から、様々な推定モデルパラメータサブセットを別々に求めるように、モデリングが実施される。各サブセットは、リソグラフィ装置の対応する特定のサブシステムから生じるオーバーレイエラーに関係する。最後に、スキャナにおいて、スキャナの特定のサブシステムの制御をその対応する推定モデルパラメータサブセットを用いて行うことによって、露光が制御される。この結果、製品ウェーハが、十分に制御されたオーバーレイで露光される。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置を制御する方法であって、 リソグラフィプロセスを、前記リソグラフィ装置を用いて基板に対して実施する工程と、 前記リソグラフィプロセスから生じる基板特性を測定して、基板特性測定値を取得する工程と、 前記基板特性測定値から、前記リソグラフィ装置の対応する特定のサブシステムから生じる前記基板特性のエラーにそれぞれが関係する、前記リソグラフィ装置の複数の推定モデルパラメータサブセットを別々に求める工程と、 前記リソグラフィ装置によるリソグラフィ処理を、前記リソグラフィ装置の特定のサブシステムの制御を前記制御される特定のサブシステムの対応する推定モデルパラメータサブセットを用いて行うことによって制御する工程と を含む方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/30 516Z ,  H01L21/30 502V ,  H01L21/30 516B

Fターム (3件)：

5F146CC14 ,  5F146DA30 ,  5F146DB05

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-134813