特許
J-GLOBAL ID：201103030738998537
高周波加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 孝治 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-066910
公開番号（公開出願番号）：特開2001-257068
特許番号：特許第3486837号
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ワークの表面上の複数箇所を同時に高周波加熱する高周波加熱装置において、高周波電圧の入力に応じて高周波電流を各々出力するトランスと、トランスの互いに独立した複数の2次側コイルに各々接続されており且つ前記ワークの表面上の複数箇所を誘導加熱する複数のコイルとを備えていることを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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