特許
J-GLOBAL ID：201103030904413852

描画処理装置

発明者：
森田 雅夫

森田 雅夫 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (1件)： 柳澤 正夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-320638
公開番号（公開出願番号）：特開2002-133428
特許番号：特許第4022710号
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 描画すべき描画データを入力する描画データ入力手段と、描画された順序通りにメモリ上にデータを上書きしていく描画方式を用いて描画処理を行う第1の描画処理手段と、前記描画データから生成された中間コードの状態で描画図形の重なりを除去する処理を行う描画方式を用いて描画処理を行う第2の描画処理手段と、前記第1および第2の描画処理手段における処理負荷あるいは処理時間を推定する処理負荷推定手段と、前記処理負荷推定手段により推定された前記第1および第2の描画処理手段における処理負荷あるいは処理時間に基づいてもっとも高速に処理できる描画処理手段を選択する描画方式選択手段を備えることを特徴とする描画処理装置。
IPC (7件)：
G06T 11/40 ( 200 6.01) ,  G06T 11/00 ( 200 6.01) ,  B41J 5/30 ( 200 6.01) ,  B41J 21/00 ( 200 6.01) ,  G09G 5/377 ( 200 6.01) ,  G09G 5/393 ( 200 6.01) ,  G09G 5/36 ( 200 6.01)
FI (7件)：
G06T 11/40 200 A ,  G06T 11/00 100 A ,  B41J 5/30 Z ,  B41J 21/00 Z ,  G09G 5/36 520 N ,  G09G 5/36 530 E ,  G09G 5/36 530 X
引用特許：
審査官引用 (4件)
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