特許

J-GLOBAL ID：201103030973240455

レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者： 市川 幸司 ,  杉原 昌子
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-239634
公開番号（公開出願番号）：特開2011-085811
出願日： 2009年10月16日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：

【課題】良好な形状及びPCM、優れたDOFを示すレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】スルトン環を含む酸発生剤及び式(I)で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物。[式中、Tは、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、グリシジルオキシ基又はアシル基で置換されていてもよい脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、少なくとも1つの-SO2-で置き換わっており、さらに、-CO-、-O-、-S-、-SO2-又は-N(Rc)-で置き換わっていてもよい;Rcは水素原子又は脂肪族炭化水素;R1は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲン原子を有してもよいアルキル基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

スルトン環を含む酸発生剤及び式(I)で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/38 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/38 ,  H01L21/30 502R

Fターム (56件)：

2H125AF17P ,  2H125AF33P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125FA03 ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL26Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04S ,  4J100BA10P ,  4J100BA11R ,  4J100BA20P ,  4J100BA40P ,  4J100BB11S ,  4J100BB18P ,  4J100BB18S ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC08S ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC12Q ,  4J100BC27Q ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100BC83P ,  4J100BC84P ,  4J100CA03 ,  4J100JA38