特許
J-GLOBAL ID：201103031016621508
C4-ジカルボン酸および/またはこれらの誘導体を気相中で水素化する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-549382
特許番号：特許第4149808号
出願日： 2001年12月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 C4-ジカルボン酸および/またはこれらの誘導体を気相中でTHFおよび/またはその誘導体へと水素化する方法において、アルミナに、酸化銅と酸化亜鉛とを担持した水素化触媒を使用し、かつ50nmより大きい細孔径に関して細孔容積0.01ml/g以上を有し、かつ50nmより大きい直径を有するマクロ細孔の細孔容積対4nmより大きい直径を有する細孔のための全細孔容積の比が10%より大である上記水素化触媒を使用することを特徴とする、C4-ジカルボン酸および/またはこれらの誘導体を気相中で水素化する方法。
IPC (4件)：
C07D 307/08 ( 200 6.01)
, B01J 23/80 ( 200 6.01)
, B01J 35/10 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07D 307/08
, B01J 23/80 Z
, B01J 35/10 301 G
, C07B 61/00 300
