特許
J-GLOBAL ID：201103031138803151
磁気光学式欠陥検出方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松井 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-027827
公開番号（公開出願番号）：特開2011-163972
出願日： 2010年02月10日
公開日（公表日）： 2011年08月25日
要約：
【課題】 簡単な構成で、高分解能で広い範囲の被検査物の探傷を行えること【解決手段】 被検査物1に磁界を印加し、その表面のキズ2部に生じた漏洩磁界を、被検査物に近接させた磁気光学効果素子10に透過させた直線偏光の偏光面回転により検出する磁気光学式欠陥検出方法である。磁気光学効果素子は、磁化容易軸が面内を向いている面内磁化膜の磁気光学膜12を備え、その磁気光学膜を被検査物の表面に対向させる。そして、磁界は、被検査物1の裏面側に配置した永久磁石18により、面内に直交する方向に印加することとした。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被検査物に磁界を印加し、その表面の欠陥部に生じた漏洩磁界を、被検査物に近接させた磁気光学効果素子に透過させた光の磁気光学効果により検出する磁気光学式欠陥検出方法であって、
前記磁気光学効果素子は、膜面内方向の磁気飽和に要する磁界が、垂直方向の飽和に要する磁界よりも小さい面内磁化膜の磁気光学膜を備え、その磁気光学膜を前記被検査物の表面に対向させ、
前記磁界は、前記被検査物表面に直交する方向に印加することを特徴とする磁気光学式欠陥検出方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2G017AC09
, 2G017AD12
, 2G017AD15
, 2G017CB01
, 2G017CB10
, 2G017CB20
, 2G053AA11
, 2G053AB13
, 2G053AB22
, 2G053BB11
, 2G053BC20
, 2G053CB24
, 2G053CB29
, 2G053DB07
