特許

J-GLOBAL ID：201103031146030641

完全縮合オリゴシルセスキオキサン及びそれらの製造方法

発明者： 川上 雄資 ,  大井 册雄 ,  斉藤 憲明 ,  山本 洋之 ,  新家 悟之
出願人/特許権者： 小西化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-255943
公開番号（公開出願番号）：特開2011-098939
出願日： 2009年11月09日
公開日（公表日）： 2011年05月19日
要約：

【課題】フェニル基にトリアルキルシリル基を有するPOSSの選択的合成と単離、及びニトロ化の提供。【解決手段】トリアルキルシリルフェニル基を有する式(1)で表される完全縮合シルセスキオキサンを、トリアルキルシリルフェニル基を有するトリアルコキシシランから合成及び単離する。トリアルキルシリル基をニトロ基に変換すれば、更に他の機能性官能基の導入を可能にする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一般式(1)又は一般式(2)

IPC (1件)：

C07F 7/21

FI (1件)：

C07F7/21

Fターム (16件)：

4H039CA92 ,  4H039CL25 ,  4H049VN01 ,  4H049VP08 ,  4H049VP09 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ88 ,  4H049VR21 ,  4H049VR24 ,  4H049VR43 ,  4H049VS21 ,  4H049VS88 ,  4H049VT47 ,  4H049VU20 ,  4H049VV03 ,  4H049VW02