特許
J-GLOBAL ID：201103031400037376
光ナノインプリントのパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-278350
公開番号（公開出願番号）：特開2011-124259
出願日： 2009年12月08日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：
【課題】優れた形状のパターンを得ることができるパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】(1)樹脂、重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む組成物を基板上に塗布する工程、(2)基板上に塗布した層から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、(3)組成物層を水に浸漬しながら、組成物層にモールドのパターン面を圧着して、モールドのパターンを転写させる工程、(4)モールドのパターンが転写された組成物層を乾燥する工程、(5)得られた組成物層をモールドから離脱させる工程、及び(6)組成物層をモールドから離脱させる工程の前又は後に、得られた組成物層に露光機を用いて露光する工程を含むパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(1)樹脂、重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む組成物を基板上に塗布する工程、
(2)基板上に塗布した層から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、
(3)組成物層を水に浸漬しながら、組成物層にモールドのパターン面を圧着して、モールドのパターンを転写させる工程、
(4)モールドのパターンが転写された組成物層を乾燥する工程、
(5)乾燥した組成物層に露光機を用いて露光する工程、及び、
(6)露光した組成物層をモールドから離脱させる工程をこの順に含むパターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
4F209AA36
, 4F209AA37
, 4F209AA44
, 4F209AB03
, 4F209AB04
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AM25
, 4F209AM30
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
, 5F146AA28
