特許
J-GLOBAL ID：201103031671732894

表面検査装置および方法

発明者：
深澤 和彦

深澤 和彦 について

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山本 麻理

山本 麻理 について

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大森 健雄

大森 健雄 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大西 正悟
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369814
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162367
特許番号：特許第4666244号
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】複数のパターン層が重ねられて形成された表面を有する被検物体の前記表面に照明光を照射する照明光学系と、 前記被検物体からの回折光に基づく物体像を撮像する撮像手段と、 前記撮像手段により前記物体像を撮像する際の装置条件を設定または変更する条件制御手段と、 前記条件制御手段による前記装置条件の変更時に前記撮像手段により撮像される前記物体像の画像を取り込み、その画像に基づいて前記パターン層を検査するための前記装置条件の最適条件を求める条件検出手段とを有し、 前記条件検出手段は、最上位のパターン層形成前の画像から前記装置条件の最適条件を求め、かつ前記最上位のパターン層形成後の画像から前記装置条件の最適条件を求め、求められた複数の最適条件から前記撮像手段で撮像された画像が前記最上位のパターンによるものであるか否かを判断することを特徴とする表面検査装置。
IPC (1件)：
G01N 21/956 ( 200 6.01)
FI (1件)：
G01N 21/956 A
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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