特許

J-GLOBAL ID：201103031878825418

シベトンの製造法

発明者： 佐藤 菊正 ,  井上 誠一 ,  田原 武志 ,  宮本 統
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-061937
公開番号（公開出願番号）：特開平2-240041
特許番号：特許第2736916号
出願日： 1989年03月14日
公開日（公表日）： 1990年09月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(II)で表わされるビシクロ化合物のジオキソラン環を熱分解しシス脱酸素反応を行った後、必要に応じてケタール保護基を脱保護することを特徴とする下記式(I)で表わされるシベトンの製造法。(式中、Rは低級アルキレンジオキシル基、二つの低級アルコキシル基または酸素原子を、R′は低級アルキル基を示す。)

IPC (2件)：

C07C 49/587 ,  C07C 45/65

FI (2件)：

C07C 49/587 A ,  C07C 45/65

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-240866
  
• 特開昭52-096081