特許
J-GLOBAL ID:201103031982857500

発熱体、定着装置及び画像形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人 天城国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-096894
公開番号(公開出願番号):特開2001-284019
特許番号:特許第4347495号
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2001年10月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】 平板状のセラミック基板と;この基板の一方の面に形成された抵抗発熱体と;焼成により形成され、抵抗発熱体を直接的または間接的に被覆すると共にセラミック基板よりも小さな膨張率を有することにより、常温において内部に圧縮応力を残留させているオーバーコート層と;を具備していることを特徴とする発熱体。
IPC (4件):
H05B 3/16 ( 200 6.01) ,  G03G 15/20 ( 200 6.01) ,  H05B 3/10 ( 200 6.01) ,  H05B 3/20 ( 200 6.01)
FI (4件):
H05B 3/16 ,  G03G 15/20 101 ,  H05B 3/10 C ,  H05B 3/20 328
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 加熱定着装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-347761   出願人:住友電気工業株式会社

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