特許

J-GLOBAL ID：201103031994214884

マトリクス型液晶表示基板の製造方法

発明者： 広部 俊彦 ,  桶谷 大亥 ,  加藤 博章 ,  今矢 明彦 ,  永安 孝好
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-243868
公開番号（公開出願番号）：特開平3-105324
出願日： 1989年09月19日
公開日（公表日）： 1991年05月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光透過性を有する基板と、該基板上にマトリクス状に配された絵素電極と、該絵素電極にそれぞれ電気的に接続された、第一の幅を有する部分と第一の幅よりも狭い第二の幅を有する部分とにより構成されたゲート電極を有する薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタのゲート電極の第一の幅を有する部分に、第二の幅を有する部分を介して接続された走査線とを備えたマトリクス型液晶表示基板の製造方法において、該薄膜トランジスタのゲート電極上方に薄膜を形成する工程と、該薄膜上にレジスト膜を形成する工程と、該ゲート電極を遮光マスクとして、該基板の裏面側から該レジスト膜に光を照射し、該ゲート電極のエッジから内側に過剰露光されたパターンを有するレジストマスクを該薄膜上に形成する工程と、該レジストマスクを用いて、該薄膜をエッチングし、薄膜パターンを形成する工程とを含んでおり、該第一の幅は、該基板の裏面側からの光照射により、基板表面側に形成したレジスト膜が該ゲート電極のエッジから内側に過剰露光される過剰露光部の寸法の2倍より大きいものであり、該第二の幅は、該過剰露光部の寸法の2倍より小さいものであるマトリクス型液晶表示基板の製造方法。

IPC (3件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 29/786

FI (1件)：

H01L 29/78 311 A 9056-4M

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-136076
  
• 特開昭62-171160
  
• 特開昭59-228289