特許
J-GLOBAL ID：201103032019136003
光回折素子の転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-090534
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284674
特許番号：特許第4319733号
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】支持体フィルムの一方の面に、少なくとも光回折素子形成層、反射性薄膜層、および第1の接着剤層が順に積層された転写層が積層された光回折素子転写フィルムを準備し、前記支持体フィルムの前記転写層が積層されているのとは反対の面に第2の接着剤層を介して裏打用シートを積層して光回折素子転写シートを形成し、得られた光回折素子転写シートの転写層側をシート状または板状の被着体の被着面と重ね合わせて重合体を形成し、次に前記重合体を少なくとも一方が加熱ローラである一対の回転ローラ間を通過させることにより加熱および加圧することにより、前記転写層を被着体の被着面に転写させ、その後、支持体フィルム、第2の接着剤層、および裏打用シートとを剥離することを特徴とする光回折素子の転写方法。
IPC (3件)：
G03H 1/18 ( 200 6.01)
, B44C 1/17 ( 200 6.01)
, G02B 5/18 ( 200 6.01)
G03H 1/18
, B44C 1/17 A
, G02B 5/18
