荷電粒子癌治療システムと併用されるX線方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：沢田雅男 , 木村満 , 毛受隆典 , 森川泰司 , 雨宮康仁 , 桜田圭 , 美恵英樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-510455
公開番号（公開出願番号）：特表2011-523864
出願日： 2009年05月21日
公開日（公表日）： 2011年08月25日
要約：

本発明は、癌腫瘍に対する荷電粒子照射治療と併用されるX線方法及び装置を有する。そのシステムは、陽子ビーム癌治療システムの陽子ビーム経路と実質的に同じ経路に位置し、長い寿命を有し、及び又は、患者の呼吸と同期するX線を使用する。そのシステムは、陽子ビーム経路に近接したところに配置されたX線発生源を叩く電子ビームを生成する。陽子ビーム経路の近傍にX線を発生することによって、実質的に陽子ビーム経路であるX線経路が生成される。そのシステムは、発生されたX線を用いて、癌腫瘍のまわりの局部的な体の組織範囲のX線画像を収集し、そのX線画像は、陽子ビーム経路に対する体の位置合わせを細かく調整すること、及び又は陽子ビーム経路を正確且つ精密に目標の腫瘍に制御すること、に使用できる。【選択図】図22

請求項（抜粋）：

粒子ビーム癌治療システムの一環としてのX線装置であって、前記粒子ビーム癌治療システムが患者の腫瘍を照射する荷電粒子ビームの使用中に、前記X線装置は、荷電粒子ビームの40ミリメートル以内に配置されたX線発生源であって、前記X線発生源が、(1)当該X線発生源の使用期間中、及び(2)荷電粒子ビームによる腫瘍治療の期間中に、単一の静的な位置を維持するX線発生源を備え、前記X線発生源から放射されたX線が、荷電粒子ビームと実質的に平行に走る構成としたことを特徴とするX線装置。

IPC (7件)：

A61N 5/10 , H05H 13/04 , H05H 7/10 , H05H 7/12 , G21K 5/02 , G21K 5/04 , A61B 6/03

FI (13件)：

A61N5/10 H , H05H13/04 G , H05H13/04 D , H05H13/04 Q , H05H13/04 E , H05H7/10 , H05H7/12 , G21K5/02 X , G21K5/04 A , G21K5/04 C , A61B6/03 377 , A61B6/03 370B , A61N5/10 D

Fターム (19件)：

2G085AA13 , 2G085BA13 , 2G085BA14 , 2G085CA24 , 2G085DA03 , 2G085EA07 , 4C082AA01 , 4C082AC02 , 4C082AC05 , 4C082AE01 , 4C082AG01 , 4C082AG12 , 4C082AJ07 , 4C082AL07 , 4C082AP06 , 4C093AA22 , 4C093CA41 , 4C093EA01 , 4C093FA19

引用特許：

審査官引用 (6件)

放射線照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-224900 出願人：三菱電機株式会社
特開昭62-087171
X線ターゲットの寿命を長引かせる方法及び装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-608402 出願人：ビードサイエンティフィックインストルメンツリミテッド

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