特許

J-GLOBAL ID：201103032133777620

含フッ素ジエン化合物の製造方法

発明者： 神谷 浩樹
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-045497
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247914
特許番号：特許第4081905号
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 式2で表される含フッ素オレフィンまたは式3で表される含フッ素オレフィンを塩基性化合物存在下に脱HF反応させることを特徴とする、式1で表わされる含フッ素ジエン化合物の製造方法(ただし、式1〜3において、Rfは炭素数1〜11のポリフルオロアルキル基を表す。)。 RfCF=CHCH=CH2 ・・・式1 RfCF2CH2CH=CH2 ・・・式2 RfCF2CH=CHCH3 ・・・式3

IPC (1件)：

C07C 17/25 ( 200 6.01)

FI (1件)：

C07C 17/25

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2028328号
  
• 特許第1026637号
  

審査官引用 (4件)

• 特許第2028328号
  
• 特許第2028328号
  
• 特許第1026637号
  
• 特許第1026637号
  

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Izvestiya Akademi Nauk, Seriya Khimicheskaya, 1992, No.2, p.408-412

審査官引用 (1件)

• Izvestiya Akademi Nauk, Seriya Khimicheskaya, 1992, No.2, P408,410,412