特許
J-GLOBAL ID:201103032252865147
ステージ装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
近島 一夫
, 阪本 善朗
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-245281
公開番号(公開出願番号):特開2011-091298
出願日: 2009年10月26日
公開日(公表日): 2011年05月06日
要約:
【課題】反射手段の取り付け誤差が生じても、粗動ステージに対する微動ステージの位置決めを精確に行う。【解決手段】粗動Xステージ111の変位測定用の第1レーザ測長器121は粗動Xステージ111に配置される。微動ステージ112の変位測定用の第2レーザ測長器122は微動ステージ112に配置される。反射ミラー116は第1レーザ測長器121及び第2レーザ測長器122に対向するように固定体に配置される。微動ステージ112は粗動ステージ111上に配置されているので、粗動Xステージ111の移動に伴って共に粗動Xステージ111の移動方向と同一方向に移動する。このとき、制御装置150は、第1レーザ測長器121により測定される第1距離と、第2レーザ測長器122により測定される第2距離との差分値が一定値となる位置に微動ステージ112が移動するようリニアモータ115を制御する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
固定体に対して移動可能な粗動ステージと、前記粗動ステージの上に配置され、微動ステージ駆動手段の駆動により前記粗動ステージに対して前記粗動ステージの移動方向と直交する方向に移動可能な微動ステージと、を備えたステージ装置において、
前記粗動ステージに配置され、前記粗動ステージの変位測定用の第1レーザ測長器と、
前記微動ステージに配置され、前記微動ステージの変位測定用の第2レーザ測長器と、
前記第1レーザ測長器及び前記第2レーザ測長器に対向するように前記固定体に配置され、前記第1レーザ測長器及び前記第2レーザ測長器に共通の反射手段と、
前記粗動ステージの移動に伴って前記微動ステージが共に前記粗動ステージの移動方向と同一方向に移動する際に、前記第1レーザ測長器により測定される前記反射手段からの第1距離と、前記第2レーザ測長器により測定される前記反射手段からの第2距離との差分値が一定値となる位置に前記微動ステージが移動するよう前記微動ステージ駆動手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とするステージ装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/68
FI (4件):
H01L21/30 515G
, H01L21/30 503A
, G03F7/20 521
, H01L21/68 K
Fターム (19件):
5F031HA53
, 5F031HA57
, 5F031JA06
, 5F031JA28
, 5F031JA32
, 5F031JA45
, 5F031KA06
, 5F031LA08
, 5F031MA27
, 5F031MA33
, 5F031PA30
, 5F046CC01
, 5F046CC04
, 5F046CC13
, 5F046CC16
, 5F146CC01
, 5F146CC04
, 5F146CC13
, 5F146CC16
引用特許:
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