特許
J-GLOBAL ID：201103032695260221
イオン注入シミュレーションのパラメータ抽出方法、記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
▲柳▼川 信
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-332172
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148353
特許番号：特許第3540223号
出願日： 1999年11月24日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ピアソン分布関数と補正関数F(P(x)) = CSi(1-exp(-P(x)/CSi))(関数P(x)は前記ピアソン分布関数、CSiはSiの原子数密度とする、以下同じ)とを用いる不純物イオン注入シミュレーションにおけるパラメータ抽出方法であって、点欠陥濃度分布を、前記補正関数の逆関数G(P(x))=-CSi log(1-P(x)/CSi)で変換するステップと、この変換された分布をピアソン分布関数で近似してパラメータを抽出するステップとを含むことを特徴とするパラメータ抽出方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/265 Z
, H01L 21/00
