真空蒸着法に使用される均しマスク

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：川口義雄 , 伏見直哉 , 小野誠 , 田中夏夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-533602
特許番号：特許第4267202号
出願日： 1999年02月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】任意の基板に任意の被膜を蒸着によって形成するときに、堆積量を制御するために使用される均しマスクであって、前記均しマスクが、少なくとも2個の偏側性遮蔽パネル(22)を含み、前記2個の遮蔽パネルが、実質的に共面性であること、及び、前記2個の遮蔽パネルが、双方のパネルに共通の制御装置(23)の制御下で、相互間スペース(E)が最小になる接近位置と、相互間スペース(E)が逆に最大になる離間位置とから成る2つの極端位置の間で連続的に回動するように、第三の遮蔽パネルをなす固定ベース(24)に対して回動自在に装着されていることを特徴とする均しマスク。

IPC (2件)：