特許

J-GLOBAL ID：201103032890005082

レジスト組成物

発明者： 市川 幸司 ,  杉原 昌子 ,  坂本 宏
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-153724
公開番号（公開出願番号）：特開2011-039498
出願日： 2010年07月06日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：

【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)及びマスクエラーファクター(MEF)を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(a)で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂及び式(I)で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(a)で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂及び式(I)で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/28

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/28

Fターム (30件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA38 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38