特許
J-GLOBAL ID:201103033257091049

炎とレーザーとを用いた微粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 服部 雅紀
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-595941
特許番号:特許第3790105号
出願日: 2000年01月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 反応物質をバーナーにより生成される炎に供給する段階と、 前記炎による前記反応物質の反応により粒子核を発生させる段階と、 前記炎により、前記粒子核の相互衝突及び結合により前記粒子核を含む集合体を形成する段階と、 前記炎によって前記集合体が形成される範囲にある前記集合体に、少なくとも1つのレーザービームを照射し、前記集合体をこの集合体よりも小さな微粒子にする段階と、 前記微粒子を成長させる段階と、 を含むことを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (3件):
C03B 19/14 ( 200 6.01) ,  C03B 8/04 ( 200 6.01) ,  C03B 37/018 ( 200 6.01)
FI (3件):
C03B 19/14 Z ,  C03B 8/04 C ,  C03B 37/018 C
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特開昭53-134016
審査官引用 (2件)
  • 特開昭53-134016
  • 特開昭53-134016

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