特許
J-GLOBAL ID:201103033321827518
AlTi系合金スパッタリングターゲット及び耐摩耗性AlTi系合金硬質皮膜並びに同皮膜の形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
小越 勇 (外1名)
, 小越 勇
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-106115
特許番号:特許第3089262号
出願日: 1999年04月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 AlTi系合金スパッタリングターゲットの組成が、AlxTi1-x-ySiyであり、x及びyがそれぞれ0.05≦x≦0.7、0.1<y≦0.25であることを特徴とする粉末冶金法によって得られたAlTi系合金スパッタリングターゲット。
IPC (3件):
C23C 14/34
, C22C 14/00
, C23C 14/06
FI (3件):
C23C 14/34 A
, C22C 14/00 Z
, C23C 14/06 L
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