特許
J-GLOBAL ID:201103033339095816

洗浄水の製造方法及び洗浄水

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-329666
公開番号(公開出願番号):特開2002-096066
特許番号:特許第4025903号
出願日: 2000年09月21日
公開日(公表日): 2002年04月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 原水中のカルシウムイオン濃度を1.0mmol/dm3以下、及びマグネシウムイオン濃度を1.0mmol/dm3以下にする工程、或いは、原水中の硫酸イオンを0.2mmol/dm3以下、及び/または塩化物イオンを0.5mmol/dm3以下、及びカルシウムイオン濃度を1.0mmol/dm3以下、及びマグネシウムイオン濃度を1.0mmol/dm3以下にする工程と、この後に原水中の炭酸ナトリウム濃度を0.1〜10.0mmol/dm3に調整する工程を有し、これを電気分解してpH値が8.0以上13.0以下であり、及び/または、酸化還元電位が-100mV〜-1000mVである洗浄水において、製造した洗浄水に水酸化カルシウムを0.05mmol/dm3〜2mmol/dm3の範囲で添加する工程を有することを特徴とする洗浄水の製造方法。
IPC (3件):
C02F 1/46 ( 200 6.01) ,  C02F 1/42 ( 200 6.01) ,  C25B 1/04 ( 200 6.01)
FI (3件):
C02F 1/46 A ,  C02F 1/42 B ,  C25B 1/04
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 洗浄装置および洗浄方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-236028   出願人:株式会社豊田中央研究所
  • 電解水生成装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-111513   出願人:ホシザキ電機株式会社

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