特許
J-GLOBAL ID：201103033382025961
光ディスクの廃棄処理方法、廃棄処理機構及び該廃棄処理機構を備えた光ディスク製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江藤 聡明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-242478
公開番号（公開出願番号）：特開2002-316321
特許番号：特許第4639009号
出願日： 2001年08月09日
公開日（公表日）： 2002年10月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】光ディスクの廃棄処理を自動的に行うための処理機構であって、
廃棄処理対象の光ディスクをガイド手段により位置規制しつつ載置可能な基盤部と、
該基盤部内に設けられたヒータと、を有し、
前記ヒータは、昇降手段により上昇して前記光ディスクを支持すると同時に該光ディスクの情報記録領域及び認識情報記録領域の何れか一方又は双方の一部を加熱溶融するようにしたことを特徴とする光ディスクの廃棄処理機構。
IPC (2件)：
B29B 17/00 ( 200 6.01)
, G11B 7/26 ( 200 6.01)
B29B 17/00 ZAB
, G11B 7/26
