特許

J-GLOBAL ID：201103033823506308

アキュムレータ用ブラダの製造方法

発明者： 斉藤 貴史
出願人/特許権者： エヌオーケー株式会社
代理人 (1件)： 野本 陽一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-310320
公開番号（公開出願番号）：特開平2-289332
特許番号：特許第2855350号
出願日： 1989年11月29日
公開日（公表日）： 1990年11月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設してなるアキュムレータ用ブラダの製造方法において、ガス遮蔽膜(51)が真空成形ののち真空成形型(11)に取付けたままで未加硫の弾性下層(52)あるいは未加硫の弾性上層(53)に対して配設されており、かつガス遮蔽膜(51)の配設ののち弾性下層(52)および弾性上層(53)が加硫成形によってガス遮蔽膜(51)と一体化されてなることを特徴とするアキュムレータ用ブラダの製造方法。

IPC (7件)：

B29C 65/70 ,  B29C 65/48 ,  F15B 1/08 ,  F16J 3/02 ,  B29K 21:00 ,  B29K 105:24 ,  B29L 31:00

FI (4件)：

B29C 65/70 ,  B29C 65/48 ,  F16J 3/02 D ,  F15B 1/047