特許

J-GLOBAL ID：201103034054795233

電気光学装置の製造方法

発明者： 小林 由文
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-268530
公開番号（公開出願番号）：特開2001-092371
特許番号：特許第3731405号
出願日： 1999年09月22日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 電気光学物質に電界を印加するための電極部、及び該電極部の一端部から引き出された配線部を有する複数の第1の導体パターンを基板上に形成する電気光学装置の製造方法であり、 前記複数の第1の導体パターンの前記一端部以外の部分において、前記第1の導体パターンと接続する部分と前記第1の導体パターンと所定間隔離して対向する部分とを交互に有する除電用の第2の導体パターンを形成し、 前記第1の導体パターンにプローブを当てて前記第2の導体パターンの電位に対する前記複数の第1の導体パターンの電位を順次測定することによって、前記複数の第1の導体パターンのパターン検査を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

IPC (2件)：

G09F 9/00 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1345 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G09F 9/00 338 ,  G02F 1/134

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 液晶表示装置、電子機器及び液晶表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-268536   出願人：セイコーエプソン株式会社