特許
J-GLOBAL ID:201103034340489700

ガス精製剤及びその製造方法並びにガス精製方法、ガス精製器及びガス精製装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木戸 一彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-166638
公開番号(公開出願番号):特開2001-046878
特許番号:特許第3782288号
出願日: 2000年06月02日
公開日(公表日): 2001年02月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】微量不純物として少なくとも一酸化炭素及び/又は水素を含む原料ガスを精製して該微量不純物を除去するガス精製に使用するガス精製剤であって、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム及びこれらの酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を無機多孔性物質に担持してなる触媒を吸着剤の表面に形成したことを特徴とするガス精製剤。
IPC (3件):
B01J 29/12 ( 200 6.01) ,  B01D 53/02 ( 200 6.01) ,  B01J 20/18 ( 200 6.01)
FI (3件):
B01J 29/12 A ,  B01D 53/02 Z ,  B01J 20/18 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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