円盤状ヒータ

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-150158
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340343
特許番号：特許第3793554号
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】円盤状セラミック基体の上面を加熱面とし、該基体内部に発熱抵抗体を埋設してなる円盤状ヒータにおいて、前記発熱抵抗体を円盤中心から同心円状に半径の異なる複数の略円形体によって構成し、前記略円形体に複数の高抵抗領域と複数の低抵抗領域とを等間隔をもって交互に、かつ前記高抵抗領域の線幅を前記低抵抗領域の幅の4分の1以下に狭くして配設するとともに、前記複数の略円形体を全て直列回路で結線してなることを特徴とする円盤状ヒータ。

IPC (1件)：