プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北村欣一 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-136865
公開番号（公開出願番号）：特開平3-002377
特許番号：特許第2981749号
出願日： 1989年05月30日
公開日（公表日）： 1991年01月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空室の周壁を該真空室内に台状に突出させて基板電極が設けられる台部を形成し、該台部の周囲の該周壁に形成される凹部に真空排気口を接続し、該真空室内に該基板電極と対向する平板状の対向電極を設けて両電極間に発生するプラズマにより該基板電極上に載置された基板を処理するようにしたものに於て、該台部の周囲の凹部内に、該凹部の深さ方向下方に延びる庇部を備えた環状の上部の邪魔板と、該凹部の深さ方向上方に延びる庇部を備えた環状の下部の邪魔板とからなる邪魔板を設け、該上部の邪魔板と下部の邪魔板の各庇部間に、上部の邪魔板の固定位置を下部の邪魔板に対して可変とすることにより開口面積が可変する開口部を形成し、該凹部内から該開口部を介して前記真空排気口へと連通する制御通路を構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

C23C 16/50 , B01J 19/08 , C23F 4/00

FI (3件)：

C23C 16/50 B , B01J 19/08 H , C23F 4/00 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭62-098727
特開昭62-214175

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