特許
J-GLOBAL ID：201103034760711905

有機電界発光素子の製造方法、有機電界発光素子、有機EL表示装置及び有機EL照明

発明者：
▲鶴▼谷 泰之

▲鶴▼谷 泰之 について

, 
佐藤 秀樹

佐藤 秀樹 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-284385
公開番号（公開出願番号）：特開2011-129275
出願日： 2009年12月15日
公開日（公表日）： 2011年06月30日
要約：
【課題】発光材料、トリアリールアミンの部分構造及び/又はカルバゾール環を含む電荷輸送材料、及び溶剤を含有する発光層形成用組成物を用いて形成される発光層を有する有機電界発光素子の製造方法において、駆動寿命の長い素子を提供する。【解決手段】第一の電極と、該第一の電極に対向して形成される第二の電極との間に、発光層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、該発光層が、発光材料、トリアリールアミン構造及び/又はカルバゾール環を分子内に含む電荷輸送材料、及び溶剤を含有する発光層形成用組成物を用いて、酸素濃度が18〜22体積%の環境下、湿式成膜法で塗布膜を形成する工程と該塗布膜を不活性ガス中で加熱する工程を含むことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
第一の電極と、該第一の電極に対向して形成される第二の電極との間に、発光層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、 該発光層が、 発光材料、トリアリールアミン構造及び/又はカルバゾール環を分子内に含む電荷輸送材料、及び溶剤を含有する発光層形成用組成物を用いて、 酸素濃度が18〜22体積%の環境下、湿式成膜法で塗布膜を形成する工程と 該塗布膜を不活性ガス中で加熱する工程を含むことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C09K 11/06
FI (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 B ,  C09K11/06 690
Fターム (12件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB02 ,  3K107CC21 ,  3K107CC45 ,  3K107DD53 ,  3K107DD59 ,  3K107DD68 ,  3K107FF14 ,  3K107GG06 ,  3K107GG26 ,  3K107GG28
引用特許：
審査官引用 (2件)

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