被膜及び被膜の形成方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西川惠清 , 森厚夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-327767
公開番号（公開出願番号）：特開2001-293434
特許番号：特許第3835154号
出願日： 2000年10月26日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光半導体を含むシリコン系の無機塗料を塗布して乾燥した後、この塗料の塗膜表面に、50〜200°Cの水蒸気による処理を施すことを特徴とする被膜の形成方法。

IPC (4件)：

B05D 7/24 ( 200 6.01) , B05D 3/10 ( 200 6.01) , C09D 5/16 ( 200 6.01) , C09D 183/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

B05D 7/24 302 Y , B05D 7/24 303 B , B05D 3/10 K , C09D 5/16 , C09D 183/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

無機塗料塗膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-065494 出願人：松下電工株式会社
無機塗料塗膜の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-263022 出願人：松下電工株式会社
特開昭63-077580

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