粉粒体の乾燥機

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西教圭一郎 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-206976
公開番号（公開出願番号）：特開2002-022363
特許番号：特許第3485529号
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (a)キルン2であって、伝熱部材7によって第1および第2空間に仕切られたキルン本体3を有し、キルン本体3は、その軸線3aまわりに回転され、キルン本体の軸線3aは、一端部が他端部に比べて高くなるように傾斜しており、伝熱部材7は、キルン本体の軸線3aに平行に延び、前記一端部から第1空間に供給された乾燥されるべき粉粒体が、第2空間に供給される熱源流体によって間接熱交換されて前記他端部から排出されるキルン2と、(b)キルン本体3を、回転速度を可変に、その軸線3aまわりに回転駆動する手段12と、(c)前記一端部で、第1空間内に、乾燥されるべき粉粒体を供給し、空気を取入れる手段23〜26,28と、(d)第2空間に熱源流体を、供給する熱源流体源と、(e)前記他端部で、第1空間からの間接熱交換中に粉粒体から発生する気体を含む排ガスを排出して導く排ガス管路39と、(f)前記他端部で、乾燥された粉粒体を搬送する手段36と、(g)乾燥すべき粉粒体の入口水分含有量を検出する入口水分計29と、(h)排ガス管路39に設けられ、排ガス中の予め定める組成成分の濃度を検出する気体成分濃度検出手段41と、(i)排ガス管路39に設けられ、排ガスの温度を検出する温度計42と、(j)排ガス管路39に設けられ、排ガスの流量を調整する排ガス流量調整手段44と、(k)制御手段53であって、(k1)入口水分計29によって検出された入口水分含有量と粉粒体の乾燥後の予め設定された出口水分含有量との差である水分差を求め、(k2)前記求めた水分差に対応するキルン本体の回転速度を設定し、この設定した回転速度になるように回転駆動手段12を制御し、(k3)前記求めた水分差に対応して熱源流量を供給する熱源流体源13,18,20,48,49を制御し、(k4)前記求めた水分差に対応する排ガスの相対湿度を求め、(k5)前記求めた相対湿度および温度計42によって検出された排ガス温度に対応する排ガス中の前記予め定める組成成分濃度を設定し、(k6)気体成分濃度検出手段41によって検出された前記予め定める組成成分濃度を、前記設定された予め定める組成成分濃度になるように、流量調整手段44を制御する制御手段53とを含むことを特徴とする粉粒体の乾燥機。

IPC (3件)：

F26B 17/32 , C10B 57/10 , F26B 21/12

FI (4件)：

F26B 17/32 E , F26B 17/32 G , C10B 57/10 , F26B 21/12

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭56-016076
特開昭62-213679
特開昭63-014076

全件表示

審査官引用 (1件)

特開昭56-016076

前のページに戻る