レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-242475
公開番号（公開出願番号）：特開2011-123480
出願日： 2010年10月28日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：

【課題】優れたCD均一性及びフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることを目的とする。【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、式(II)で表される酸発生剤とを含むレジスト組成物。[式中、R1はF含有アルキル基;R2はH又はメチル基;Aは2価の飽和炭化水素基;Q1及びQ2は、それぞれF又はペルフルオロアルキル基;X1は、2価飽和炭化水素基であり、該基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい;Y1は、脂肪族炭化水素基、飽和環状炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、該飽和環状炭化水素基及び芳香族炭化水素基は置換されていてもよく、これら基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい;Z+は有機対カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、式(II)で表される酸発生剤とを含むレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004

FI (2件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A

Fターム (28件)：

2H125AF16P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03

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