金メッキシリカ及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小島隆司 , 西川裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-337727
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152045
特許番号：特許第3716903号
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】シリカ表面上にケイ素系高分子化合物層、ニッケル-リン合金層及び金層が順次形成されてなり、上記ニッケル-リン合金層中のリン含有量が内部と表層部とで異なることを特徴とする金メッキシリカ。

IPC (4件)：

C09C 1/28 , C09C 3/06 , C23C 18/52 , H01B 1/00

FI (4件)：

C09C 1/28 , C09C 3/06 , C23C 18/52 B , H01B 1/00 C

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