水素ガスの精製方法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-121033
公開番号（公開出願番号）：特開2002-003208
特許番号：特許第4686889号
出願日： 2001年04月19日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】水素を含む混合ガスをゼオライト吸着剤と接触させて水素ガスを精製する方法において、前記ゼオライト吸着剤はSiO2/Al2O3モル比が1.9〜2.1の低シリカX型ゼオライトで、低シリカX型ゼオライトの含有率が98%以上である低シリカX型ゼオライト成形体であることを特徴とする水素ガスの精製方法。

IPC (5件)：

C01B 3/56 ( 200 6.01) , B01D 53/02 ( 200 6.01) , B01J 20/18 ( 200 6.01) , B01J 20/34 ( 200 6.01) , C01B 39/22 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C01B 3/56 Z , B01D 53/02 Z , B01J 20/18 B , B01J 20/34 E , B01J 20/34 H , C01B 39/22

引用特許：

審査官引用 (7件)

気体分離用吸着剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-061454 出願人：東ソー株式会社
特公平4-006642
ゼオライトX型成形体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-349742 出願人：東ソー株式会社

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