特許
J-GLOBAL ID:201103035674729059

光学素子製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山下 穣平
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-315449
公開番号(公開出願番号):特開平3-177318
特許番号:特許第2531811号
出願日: 1989年12月06日
公開日(公表日): 1991年08月01日
請求項(抜粋):
【請求項1】成形用型部材を備えたプレス部を含んでなる成形室と該成形室に第1の密閉可能ゲートを介して連通可能に接続された置換室とを有し、該置換室には外部から成形用素材を送入し及び外部へ成形済光学素子を取出すための第2の密閉可能ゲートが備えられており、上記成形室内には中継部と該中継部から上記プレス部へと成形用素材を移送し及び上位プレス部から上記中継部へと成形済光学素子を移送する移送部とが設けられており、また上記置換室から上記中継部へと成形用素材を搬送し及び上記中継部から上記置換室へと成形済光学素子を搬送する搬送手段を備えていることを特徴とする、光学素子製造装置。
IPC (1件):
C03B 11/00
FI (1件):
C03B 11/00 C

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