特許
J-GLOBAL ID:201103035913769718
流体磁気処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-018839
公開番号(公開出願番号):特開2000-218276
特許番号:特許第3598461号
出願日: 1999年01月27日
公開日(公表日): 2000年08月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】一対の永久磁石(1a,1b)の磁極NS両端面に、厚さ1.0mmの継鉄(2a,2b,2c,2d)を有した前記永久磁石を、流体処理配管(7)を挟んで継鉄(2aと2c、2bと2d)が対向するように設置し、2個所の前記継鉄(2a,2cと2b,2d)間に処理流体の流れに対して直角に磁場を印加して強磁場を形成させることによって、前記処理流体を磁気処理する流体磁気処理装置。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
審査官引用 (4件)
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光磁気ディスクカートリッジ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-190624
出願人:株式会社ニコン
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磁気式流体処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-152246
出願人:鹿嶋俊之
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磁気処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-136711
出願人:株式会社トーキン, 昭和熱学工業株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 日本電信電話株式会社, 石橋新一郎
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流体の活性化処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-260374
出願人:有限会社アイ・ジー・エス
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