特許

J-GLOBAL ID：201103035973751770

基板のレジスト除去洗浄方法

発明者： 船吉 俊充
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-022143
公開番号（公開出願番号）：特開平2-201924
出願日： 1989年01月30日
公開日（公表日）： 1990年08月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を回転させながら加熱した状態で基板の表面に対しオゾン供給,紫外線照射またはプラズマ照射の少なくともいずれか一つを行うことにより基板表面のレジスト膜を分解除去する乾式アッシング過程において、基板表面に光を照射し、基板表面からの反射光とレジスト膜表面からの反射光との干渉波形の変化を検出し、その干渉波形の変化がなくなった時点を乾式アッシング終点とし、乾式アッシング開始から乾式アッシング終点までに要した時間の少なくとも半分の時間にわたって引き続き乾式のオーバーアッシングを行うことを特徴とする基板のレジスト除去洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/302 E ,  H01L 21/302 H ,  H01L 21/30 572 A 7352-4M