特許
J-GLOBAL ID：201103036285223022
表示装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 実
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-212608
公開番号（公開出願番号）：特開平3-076232
特許番号：特許第2938895号
出願日： 1989年08月18日
公開日（公表日）： 1991年04月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】透明絶縁性基板の表面上に、陽極酸化により絶縁物が形成可能な金属よりなる電極母線及びこの電極母線に接続されるゲート電極を形成する工程と、上記基板上に、上記電極母線及び上記ゲート電極を覆うようにネガ型感光性ポリイミドを塗布する工程と、上記基板の表面側に、上記電極母線の一部及び上記ゲート電極を覆うフォトマスクを当て、このフォトマスクの上から上記感光性ポリイミドに第一の露光を施す工程と、上記基板の裏面側から上記感光性ポリイミドに第二の露光を施す工程と、上記感光性ポリイミドを現像し、上記電極母線上の感光性ポリイミドの露光されなかった部分及びゲート電極上の感光性ポリイミドを除去する工程と、上記電極母線の感光性ポリイミドで覆われていない部分及び上記ゲート電極を陽極酸化することにより、上記電極母線の肉厚を薄くすると共に、上記ゲート電極上に第一ゲート絶縁層を形成する工程と、上記感光性ポリイミドを熱処理して硬化させる工程と、この硬化された感光性ポリイミド、上記電極母線の表面部分に形成された絶縁層及び上記第一ゲート絶縁層上に第二ゲート絶縁層を形成する工程と、上記第二ゲート絶縁層上に半導体活性層、ソース電極、ドレイン電極及び画素電極を形成する工程とを有することを特徴とする表示装置の製造方法。
IPC (2件)：
H01L 29/786
, H01L 21/336
H01L 29/78 627 A
, H01L 29/78 617 W
