特許
J-GLOBAL ID：201103036442783142
製造時に生じる高沸点成分の分解によるネオペンチルグリコールの生成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
江崎 光史
, 鍛冶澤 實
, 上西 克礼
, 虎山 一郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-517772
公開番号（公開出願番号）：特表2011-527993
出願日： 2009年06月25日
公開日（公表日）： 2011年11月10日
要約：
本発明は、製造時に生じる高沸点成分の、銅-クロマイト触媒の存在下での水素化分解による、ネオペンチルグリコールの生成方法に関する。この水素化分解は、溶媒を用いずに、温度140〜220°Cかつ圧力7〜28MPaで遂行される。
請求項（抜粋）：
製造時に生じる高沸点成分からネオペンチルグリコールを生成する方法であって、前記高沸点成分を、別個の水素化反応器中で、溶媒を用いずに銅-クロマイト触媒の存在下で、温度140〜220°Cおよび圧力7〜28MPaにおいて水素により液相中で処理し、そして得られた分解生成物を蒸留により精製することを特徴とする、上記方法。
IPC (3件)：
C07C 29/149
, C07C 31/20
, C07C 29/80
C07C29/149
, C07C31/20 Z
, C07C29/80
4H006AA02
, 4H006AC41
, 4H006AD11
, 4H006AD31
, 4H006BA05
, 4H006BA14
, 4H006BA30
, 4H006BA61
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006FE11
, 4H006FG29
, 4H039CA60
, 4H039CE40
